Волокновый материал
порошковый материал, изготовленный из порошкового волокна.
ориентированное нарастание слоя одной кристаллической фазы на определенным образом ориентированной монокристаллической подложке - другой кристаллической фазе; различают гомоэпитаксию - ориентированное нарастание эпитаксиального слоя на подложке при небольшом различии составов подложки и слоя (на доли процента) и гетероэпитаксию - ориентированное нарастание кристаллического слоя на „чужой” подложке в большинстве случаев при абсолютном различии составов подложки и слоев.
Молекулярно-пучковая (лучевая) эпитаксия....
Молекулярно-пучковая эпитаксия
Определение 2
Молекулярно-пучковая эпитаксия – это эпитаксиальный...
Сущность такого процесса заключается в соиспарении материалов, из которых состоит эпитаксиальный слой...
, и легирующих смесей, в последующем их переносе на разогретую подложку и кристаллизации на ее поверхности...
эпитаксии являются:
Вакуумная камера.
В обзоре представлены результаты исследований по кинетике роста и кинетике легирования эпитаксиального GaAs в усло виях газофазовой эпитаксии. Исследования выполнялись преимущественно в лаборатории эпитаксиальных структур СФТИ, а также совместно с сотрудниками предприятий электронной промышленности и институтов Академии наук СССР. Совокупность полученных данных позволяет построить модели роста и захвата примеси при кристаллизации GaAs из пара с участием транспортной химической реакции, а также разработать технологии латеральной эпитаксии и выращивания легированных слоев, необходимых для конкретных технических применений.
Показана возможность получения монокристаллического твердого раствора замещения p--Si--n--(Si2)1--x(CdS)x (0 ≤ x ≤ 0,01) на кремниевых подложках методом жидкофазной эпитаксии из Sn--Si--CdS раствора--расплава в атмосфере водорода, очищенного палладием. Получены наиболее совершенные эпитаксиальные слои с зеркальными поверхностями и с наилучшими параметрами при следующих условиях технологического режима: температура начала кристаллизации 1100 °С; скорость принудительного охлаждения 1 град/мин. Толщина выращенных эпитаксиальных пленок 20 мкм, n-тип проводимости с удельным сопротивлением 0,018 Ом·см. Результаты исследования механизмов переноса тока в p--Si--n--(Si2)1--x(CdS)x структурах при комнатной температуре показывают, что вольт-амперная характеристика в прямом направлении состоит из нескольких характерных участков, а процессы токопрохождения определяются различными механизмами. При малых плотностях тока его рост объясняется увеличением концентрации инжектированных носителей за сче...
порошковый материал, изготовленный из порошкового волокна.
контраст на изображении, возникающий вследствие дифракции излучения.
микроскоп, в котором изображениe поверхности формируется с помощью Оже-электронов.
Возможность создать свои термины в разработке
Еще чуть-чуть и ты сможешь писать определения на платформе Автор24. Укажи почту и мы пришлем уведомление с обновлением ☺️
Включи камеру на своем телефоне и наведи на Qr-код.
Кампус Хаб бот откроется на устройстве