резист, у которого под воздействием излучения стойкость к травителям уменьшается.
Исследованы кинетические закономерности процесса химического усиления в резисте на основе поли-трет-бутоксикарбонилоксистирола и триарилсульфониевой соли в качестве фоточув-ствительного генератора кислоты. Показано, что метилметакрилат может быть использован для модификации резиста с целью получения позитивного изображения. Изучено влияние состава сополимера трет-бутоксикарбонилоксистирола с метилметакрилатом на чувствительность резистов к непрерывному УФ-излучению (254 нм) и импульсному излучению KrF-лазера (248 нм).
Представлены некоторые результаты, касающиеся механизма, особенностей и практических возможностей предложенного авторами прямого метода формирования изображения в некоторых позитивных резистах непосредственно в процессе экспонирования электронным лучом в вакууме. На примере резиста из полиметилметакрилата показано, в частности, что этот метод удобен для получения микрои наноструктур со скруглённым профилем сечения, а также для получения пространственных 3D-структур с хорошей точностью вертикальных размеров изображения и низкой шероховатостью поверхности. Представленные данные в целом, по мнения авторов, указывают на потенциальные прикладные возможности предлагаемого метода, в частности, для изготовления дифракционных оптических элементов.
интервал времени от нанесения клея до соединения склеиваемых поверхностей в условиях окружающей среды; время открытой выдержки необходимо для удаления растворителя из полимерного клеевого слоя, заполнения клеем неровностей и пор, вытеснения из них воздуха и образования на склеиваемой поверхности слоя клея равномерной толщины.
закалка, осуществляемая путем охлаждения в струях жидкости, обычно воды.
образованиe на поверхности металла (изделия) продукта газовой коррозии - окалины.
