Микроскопический
видимый при увеличениях свыше ×25.
электролитическое травление, при котором рабочим органом является катод.
Затем осуществляется травление пленки диоксида кремния и в получившееся окно производят диффузию примеси...
Электроны, достигшие анода, определяют основные параметры катодного электрического тока, то есть он полностью...
составляющими анодного тока, показатели которого в полупроводниковых диодах всегда соответствуют параметрам катодного
Питтинговая коррозия начинается в областях компактного выхода на поверхность дефектов упаковки. Предварительная термообработка поверхности фольги создает кубическую текстуру, что позволяет получить кристаллографические туннели, расположенные в направлении (100). На протяжении всего технологического процесса травления форма питтингов имеет пикселеподобную структуру. В ходе травления углубление питтингов происходит вдоль дефектов упаковки, формируя туннели травления, и по границам зерен. Удельная емкость определяется не только удельной площадью поверхности фольги, количеством и глубиной формируемых туннелей. Основным фактором, влияющим на величину удельной емкости, является внутренний рельеф туннелей их дна и стенок.
Исследованы кинетика и механизм реакции выделения водорода на FeSi2-электроде в растворе 0,5 M H2SO4. Установлено, что реакция выделения водорода на дисилициде железа в сернокислом электролите протекает по маршруту разряд - электрохимическая десорбция, где десорбция - скорость-определяющая стадия, обе стадии необратимы, коэффициенты переноса стадий равны, одновременно протекает реакция абсорбции водорода в кинетическом режиме (во всем изученном интервале потенциалов), адсорбция атомарного водорода описывается уравнением изотермы Ленгмюра. Отмечается влияние тонкой оксидной пленки, близкой по составу к SiO2, на кинетику выделения водорода на FeSi2 при невысоких катодных поляризациях. Изучено влияние различных способов модификации поверхностного слоя FeSi2-электрода на кинетику и механизм катодного процесса. Обнаружено, что модификация поверхности дисилицида железа наводороживанием в 0,5 M H2SO4 при i = 30 мА/см2, анодным травлением в 0,5 M H2SO4 при E = 0,4 В (ст.в.э.), анодным травл...
видимый при увеличениях свыше ×25.
в литейном производстве — безводный материал, добавляемый к формовочной смеси, чтобы связать частицы вместе, иногда с использованием нагрева до высокой температуры. (2) В порошковой технологии — цементирующее вещество: материал добавляемый к металлическому порошку, чтобы увеличить прочность компакта до обжига, который удаляется во время спекания; или материал (обычно с относительно низкой температурой плавления) добавляемый к порошковой смеси с целью связывания вместе измельченных частиц, которые не могут быть спечены будучи в рассеянном состоянии.
слиток металла, используемый для выдавливания.