Ионообразующие добавки существенно влияют на процесс образования мицелл парафина в дисперсных парафинсодержащих средах, поэтому исследования их воздействия на процессы зарождения и роста кристаллов представляют как теоретический, так и практический интерес. В данной работе приведены результаты диэлектрических, оптических и рентгеноструктурных исследований влияния ионообразующих добавок на парафинсодержащие дисперсные системы. Анализ результатов исследований основан на количественных зависимостях, вытекающих из теорий зародышеобразования и электрической емкости двойного электрического слоя.
Исследовано влияние кристаллизационного перенапряжения и энергии взаимодействия между зародышем и подложкой на ось текстуры зарождения электроосажденных ОЦК металлов. Используя атомистическую теорию зародышеобразования, была определена работа образования как однослойных, так и многослойных критических зародышей, ориентированных по наиболее важным осям симметрии ОЦК решетки. Установлено, что осью текстуры зарождения ОЦК гальванопокрытий является направление <110>, которое не зависит от кристаллизационного перенапряжения. Теоретические результаты по текстуре зарождения согласуются с экспериментальными данными по электроосаждению железа. Кроме того, было обнаружено, что с увеличением толщины железных покрытий текстура зарождения изменялась на текстуру роста с осью <211> или <111>.