Мощность накачки излучателя лазера
мощность, подводимая к излучателю лазера.
постоянное напряжение, которое должно быть приложено ко входу интегральной микросхемы, чтобы выходное напряжение было равно нулю или другому заданному значению.
Представлена методика проектирования радиационно-стойких интегральных микросхем в системах автоматизированного проектирования и приведены сравнения с экспертными данными, на которые воздействуют такие виды радиаций как гамма-, рентгеновского и нейтронного излучения, а так же рассмотрено воздействие нейтронного импульса, которые влияют, в значительной степени, на коэффициенты усиления транзисторов. Представляются различные виды мощностных доз, которые воздействуют на кристаллы интегральных микросхем с учетом реальной формы импульса искусственного интеллекта. Рассмотрены численные расчеты величин ионизационного тока в база-коллекторном переходе, которые позволяют предварительно рассчитать мощность дозы гамма-, рентгеновского и нейтронного излучения. Приведены расчеты значений ионизационного тока, массивов значений с установленным шагом квантования, а так же основные параметры макромоделирования. Определены всевозможные реакции интегральных микросхем на воздействие искусственного интел...
мощность, подводимая к излучателю лазера.
контуры сигнального графа, не имеющие общих узлов.
электрический ток, значение которого превышает заданное предельное значение.
Наведи камеру телефона на QR-код — бот Автор24 откроется на вашем телефоне