низкотемпературная ползучесть, при которой деформация линейно зависит от логарифма времени.
Представлены результаты исследования при постоянной нагрузке ползучести минераловатных (MW) плит, применяемых для теплоизоляциисовмещенных покрытий, фасадов стен, монолитных полов и наружных стен подвалов, а также для звукоизоляции междуэтажных перекрытийзданий. Исследования ползучести проведены при сжимающем напряжении, составляющем 35% прочности плит на сжатие при 10%деформации. Для упреждения на 10 лет выполнено интервальное прогнозирование деформаций ползучести методом экстраполяциипроцесса ползучести, аппроксимированного экспоненциальным уравнением и логарифмированием, приведенным клинейному виду.Для прямого эксперимента, выполненного в соответствии с методическими рекомендациями ГОСТ Р ЕН 1606 относительно момента временизамера деформаций и аппроксимации процесса ползучести на базе экспоненциальной модели, представлено регрессионное уравнениедля определения 90% верхних и нижних доверительных границ деформаций ползучести для упреждения на Т=0,5–10 лет,используясреднеквадратичес...
Установлено, что при воздействии повторных нагрузок процесс пластического деформирования грунтов и дискретных материалов носит наследственный характер. Для математического моделирования пластической деформации применены интегральные уравнения теории наследственной ползучести, в которых функция времени заменена функцией числа повторных нагрузок. Получены степенные и логарифмические зависимости, связывающие пластическую деформацию с количеством повторных нагрузок,параметрами материала и компонентами тензора напряжений в главных осях. Показано, что эти зависимости обобщают ряд моделей,предложенных ранее за рубежом ив РФ. На основе анализа экспериментальных данных, полученных при испытаниях материалов в динамических приборах трехосного сжатия при различной величине девиатора напряжений, определены коэффициенты в предлагаемых моделях деформирования. Определена область применения логарифмических и степенных зависимостей.
интервал времени от нанесения клея до соединения склеиваемых поверхностей в условиях окружающей среды; время открытой выдержки необходимо для удаления растворителя из полимерного клеевого слоя, заполнения клеем неровностей и пор, вытеснения из них воздуха и образования на склеиваемой поверхности слоя клея равномерной толщины.
максимум интенсивности рассеянных рентгеновских луче.
полимеризация, при которой мономер (газ, жидкость или твердое вещество) находится в однородной фазе без растворителя или дисперсионной среды.
Возможность создать свои термины в разработке
Еще чуть-чуть и ты сможешь писать определения на платформе Автор24. Укажи почту и мы пришлем уведомление с обновлением ☺️
Включи камеру на своем телефоне и наведи на Qr-код.
Кампус Хаб бот откроется на устройстве
