создание высокоотражающей поверхности путем полировки.
Представлена экспериментальная установка для магнитно-абразивного полирования. Приведены результаты исследований влияния технологической среды на качество обработки некоторых цветных сплавов при магнитно-абразивном полировании.
Изложены результаты исследования электрических параметров источников питания для электролитно-плазменного полирования цветных сплавов в проточном электролите. Получены зависимости шероховатости и производительности от коэффициента пульсации. Определены основные параметры источников питания: диапазон напряжений, сила тока, коэффициент пульсации. Выбран источник питания, имеющий в составе мостовой трехфазный выпрямитель, реостат, измерительные приборы.
кристалл, чье строение кристаллической решетки является обычным, но чьи наружные поверхности не ограничены правильными гранями кристалла; наружные поверхности, соприкасающиеся с другими кристаллами, имеют неоднородную форму из-за разностороннего роста.
присадка к раствору для нанесения гальванического покрытия с целью предотвращения образования выемок или больших пор в наносимом материале.
процесс шлифования, при котором обработка резанием производится при очень медленной поперечной подаче.
