Методами рентгеноструктурного анализа и электронной микроскопии выполнено исследование особенностей субструктуры и величины локальных внутренних напряжений в нанои нанокомпозитных покрытиях TiN, n-TiN/Cu, n-AlN/Cu вблизи поверхности их сопряжения с подложкой и на расстоянии h = 2-3 мкм. Показано, что в покрытиях n-AlN/Cu по всей толщине обнаруживается нанозеренная (d
Методом электронной микроскопии, рентгеноструктурного анализа, измерения микрои нанотвердости исследованы особенности взаимосвязи тонкой субструктуры с изменением прочностных свойств однофазных (TiN) и нанокомпозитньгх покрытий (TiN/Cu, AlN/Cu, Ti-Si-B-N) вблизи поверхности сопряжения с подложкой и на поверхности покрытия. Показано, что в покрытиях TiN, TiN/Cu, Ti-Si-B-N обнаруживается двухуровневая зеренная структура с фрагментацией зерен размером 0.1÷0.3 мкм на субзерна размером 0.15÷0.25 нм с малоугловыми Δφ ≤ 5° разориентировками. В нанокомпозитных покрытиях TiN/Cu наблюдаются снижение твердости от исходной Hμ ~ 40 ГПа до 20÷22 ГПа в результате выдержки при Т ~ 300 K в течение t ≥ 4 103 ч и релаксация внутренних напряжений, измеренных по кривизне-кручению решетки. В покрытиях Ti-Si-B-N с примесями кислорода и углерода наблюдаются стабильные значения Hμ ≈ 55÷60 ГПа в структурных состояниях, отвечающих двухуровневой зеренной структуре легированного кремнием нитрида титана и аморфн...