бомбардировка поверхности металла, полупроводника или диэлектрика ионами металлов и неметаллов, приводящая к изменению состава, структуры и свойств поверхности; глубина проникновения ионов в мишень тем больше, чем больше энергия ионов; ионы с энергией ∼ 10÷100 кэВ проникают на глубину 0,01÷1 мкм.
Научные статьи на тему «Ионная имплантация, ионное легирование»
К широко распространенному технологическому методу (ионнаяимплантация) добавился ряд новых направлений... на сегодняшний день успешное развитие наблюдается для таких методов радиационной технологии, как:
ионное... перемешивание;
легирование материала ядрами отдачи;
нейтронно-трансмутационное легирование;
матричный... излучения в действительности довольно большая, поэтому она может влиять на вещество, создавая при этом ионы
Данная статья носит краткий обзор метода ионного легирования. Интерес рассматриваемого метода заключается в точном контроле введения примеси и достижения большой концентрации. В основе статьи лежит обзор устройства ионной имплантации и описание стадий формирования ионного пучка. Рассмотрены физические явления, возникающие при данном легировании, а также преимущества и недостатки этого метода.
Получены слои GaAs и AlGaAs, легированные Yb в процессе молекулярно-лучевой эпитаксии. Проведены исследования фотолюминесценции таких слоев. Показано, что необходимым условием активации специфической люминесценции, связанной с ионами Yb3+, является дополнительное легирование (методом ионной имплантации) кислородом. Таким образом, процессы формирования люминесцентных комплексов на основе иона Yb3+ в слоях, выращенных и легированных методом молекулярно-лучевой эпитаксии, в основном те же, что и в объемном материале, легированном Yb методом ионной имплантации.
интервал времени от нанесения клея до соединения склеиваемых поверхностей в условиях окружающей среды; время открытой выдержки необходимо для удаления растворителя из полимерного клеевого слоя, заполнения клеем неровностей и пор, вытеснения из них воздуха и образования на склеиваемой поверхности слоя клея равномерной толщины.
механическое свойство, характеризующее поглощение механической энергии твердыми телами в процессе деформации и разрушения под действием ударной нагрузки.