элемент №72 периодической системы Д.И.Менделеева (IV группа, 6 период), атомная масса 178,49; известны 27 изотопов с массовыми числами 154÷161, 166÷184, типичные степени окисления +IV, +ІІ, +III; серебристобелый металл, пластичен, легко поддается холодной и горячей обработке; Тпл 2500 ±20 К; по химическим свойствам сходен с цирконием; на воздухе покрывается оксидной пленкой HfО2; растворяется в плавиковой и концентрированной серной кислоте; не образует собственных минералов, типичный рассеянный элемент, в природе сопутствует цирконию; происхождение названия - от древнего названия Копенгагена - Hafnia; открыт в 1923 году Д.Костером и Г.Хевеши (Дания); применяют для изготовления регулирующих стержней ядерных реакторов, как геттер, как легирующий элемент жаростойких железных и никелевых сплавов, для изготовления катодов электронных ламп, нитей ламп накаливания и др..
}$ Титан;
32 $\mathrm{Ge}$ Германий;
40 $\mathrm{Zr}$ Цирконий;
50 $\mathrm{Sn}$ Олово;
72 $\mathrm{Hf...
}$ Гафний;
82 $\mathrm{Pb}$ Свинец;
104 $\mathrm{Rf}$ Резерфордий.
Общие сведения о гафнии
Гафний (Hf) является элементом IV группы, который располагается в 6 периоде под...
цирконию), его получают путем переработки циркониевых руд, где содержание Hf составляет 2,5 % от веса...
$\mathrm {Hf(OH)_4}$ - белый осадок, который получается с помощью гидролиза солей четырехвалентного гафния...
Hf(OH)_4 + 4HCl}$
$\mathrm {Hf(SO_4)_2 + 4NaOH \xrightarrow {t^\circ C} Hf(OH)_4 + 2Na_2SO_4}$
Гафний...
реагирует при кипячении: $\mathrm {Hf + 5H_2SO_4 \longrightarrow H_2[Hf(SO_4)_3] + 2SO_2 +4H_2O}$
Применение
Определены оптимальные условия определения гафния в циркониевой матрице методом пламенной атомно-абсорбционной спектрометрии (1 % HF, 0,1 % Al, max. 1 % ZrOCl2). Также изучено воздействие различных неорганических кислот (HF, HCl, HClO4, HNO3, H2SO4) и влияние аналогичных количеств железа, кальция и магния на сигнал гафния. В качестве сопоставительного метода использовался метод спектрометрии индуктивно связанной плазмой спектрометрии атомным излучением (I
интервал времени от нанесения клея до соединения склеиваемых поверхностей в условиях окружающей среды; время открытой выдержки необходимо для удаления растворителя из полимерного клеевого слоя, заполнения клеем неровностей и пор, вытеснения из них воздуха и образования на склеиваемой поверхности слоя клея равномерной толщины.
максимум интенсивности рассеянных рентгеновских луче.
скорость увеличения линейного размера кристалла.
