Временные напряжения
напряжения, проявляющиеся в изделии в процессе сварочного нагрева и последующего охлаждения.
метод нанесения покрытий путем конденсации на подложке компонентов паровой фазы.
Рассматривается метод формирования слоя нитрида кремния, применяемого в качестве маски при изготовлении планарных транзисторов. Качественные слои получаются при использовании газофазовых реакций. Получены и исследованы зависимости скорости осаждения слоев нитрида кремния от рабочей температуры, расстояния между подложками, давления в реакторе.
напряжения, проявляющиеся в изделии в процессе сварочного нагрева и последующего охлаждения.
область значений энергии, которыми не могут обладать электроны в кристалле.
квазичастица, представляющая собой состояние поляризации окружающего вещества, вызванное электроном проводимости, движение которого сопровождается перемещением созданной им области поляризации.