Фокусировка электронного пучка

Исследование на АВМ фокусировки интенсивного электронного пучка квадрупольными полями

Влияние формы ускоряющего электрода в форвакуумном плазменном источнике на предельные параметры фокусировки электронного пучка

Представлены результаты исследования влияния формы экстрактора на диаметр электронного пучка, генерируемого форвакуумным плазменным источником электронов. Показано, что наименьший диаметр пучка обеспечивается экстрактором, имеющим минимально возможный диаметр отверстия. Это может быть связано как с меньшим провисанием ускоряющего поля в область за экстрактор, так и локальным увеличением напряженности электрического поля вблизи эмиссионного отверстия.